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Structure, properties, and MEMS and microelectronic applications of vanadium oxides

机译：钒氧化物的结构，性质以及mEms和微电子应用

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Robert B Darling; Shiho Iwanaga;
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年度 2015
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1. Structure, properties, and MEMS and microelectronic applications of vanadium oxides [J] . ROBERT B. DARLING, SHIHO IWANAGA Sadhana: Academy Proceedings in Engineering Science . 2009,第4期

机译：钒氧化物的结构，性质以及MEMS和微电子应用
2. Silicon dioxide films by RF sputtering for microelectronic and MEMS applications [J] . Vivekanand Bhatt, Sudhir Chandra Journal of Micromechanics and Microengineering . 2007,第5期

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3. Design of vanadium oxide structures with controllable electrical properties for energy applications [J] . Changzheng Wu, Feng Feng, Yi Xie Chemical Society Reviews . 2013,第12期

机译：具有可控电性能的钒氧化物结构设计，用于能源应用
4. Mechanical properties of silicon oxide films deposited by pecvd-teos for application in mems structures and sensors [C] . Luiz C. D. Goncalves, Ana N. R. da Silva, Celson F. Alfano, Symposium on Microelectronics Technology and Devices . 2002

机译：MEMS结构和传感器沉积PECVD-TEOS沉积的氧化硅膜的力学性能
5. Integration of Vanadium Dioxide Films on Aluminum Trioxide and Silicon (100) Substrates: Structure-Property Correlations and Applications. [D] . Yang, Tsung-Han. 2011

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